Boron Nitride: Penting Untuk Relau Vakum Semikonduktor

  Dalam industri semikonduktor, boron nitrida (BN) memainkan peranan penting dalam aplikasi relau vakum kerana sifatnya yang luar biasa. Relau vakum adalah penting untuk pelbagai proses pembuatan semikonduktor, termasuk penyepuhlindapan, resapan dan pemendapan wap kimia (CVD).
Komponen boron nitrida digunakan secara meluas dalam relau vakum ini untuk beberapa sebab:

• Kestabilan Suhu Tinggi: Boron nitrida mempamerkan kestabilan haba yang sangat baik dan boleh menahan suhu sehingga 2,000°C dalam suasana lengai atau persekitaran vakum, menjadikannya sesuai untuk proses semikonduktor suhu tinggi.

• Lengai Kimia: Boron nitrida adalah lengai secara kimia dan tahan kepada kebanyakan asid, bes dan pelarut, memastikan keserasian dengan pelbagai bahan semikonduktor dan gas proses.

• Penebat Elektrik: Dengan sifat penebat elektrik yang sangat baik, boron nitrida menghalang litar pintas dan mengekalkan pengasingan elektrik dalam peranti semikonduktor.

• Kekonduksian Terma: Boron nitrida mempunyai kekonduksian terma yang baik, memudahkan pemindahan haba yang cekap dan pengagihan suhu seragam dalam relau vakum.

Komponen boron nitrida yang biasa digunakan dalam relau vakum semikonduktor termasuk:

• Crucibles dan Bekas: Digunakan untuk memegang wafer atau bahan semikonduktor semasa proses suhu tinggi.

• Pelapik dan Bahan Penebat: Lindungi dinding relau dan kekalkan profil suhu yang diingini.

• Lekapan dan Pemegang: Letakkan dan sokong wafer atau komponen semikonduktor semasa pemprosesan.

• Perisai dan Penyekat: Kawal aliran gas dan mengelakkan pencemaran silang.

  Sifat terma, kimia dan elektrik yang luar biasa bagi boron nitrida menjadikannya amat diperlukan dalam aplikasi relau vakum semikonduktor, menyumbang kepada pengeluaran peranti semikonduktor termaju yang cekap dan boleh dipercayai.