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当社は、研究室、試験装置、製錬業界向けに幅広いるつぼを提供しています。当社が特別に開発したるつぼは、1500°C までの瞬間加熱にも損傷なく耐えることができ、再利用可能です。また、2200°C までの温度で長期間の使用に耐えることができ、希土類精錬の効率を大幅に向上させます。
アプリケーション：
- 実験用るつぼ: 高精度の分析および実験手順に最適です。
- 冶金るつぼ：金属の製錬や精製に適しており、高温耐性と耐久性が優れています。
- シリコン結晶成長炉るつぼ: シリコン結晶の成長のために特別に設計されており、プロセス中の純度と安定性を保証します。
- 半導体装置の絶縁保護: これらのるつぼは、半導体製造における繊細なコンポーネントを保護するために重要な効果的な断熱を提供します。
マテリアルのカテゴリ:
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アルミナ (Al₂O₃) るつぼ: 優れた熱安定性と耐腐食性で知られており、高温用途に最適です。
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炭化ケイ素 (SiC) るつぼ: これらのるつぼは優れた熱伝導性を備え、耐久性が高く、要求の厳しい工業プロセスに最適です。
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マグネシア (MgO) るつぼ：耐熱性、断熱性に優れており、高い断熱性が要求される用途に適したるつぼです。
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石英るつぼ: 高純度であり、急激な温度変化に耐えられるため、シリコン結晶の成長やその他の精密な用途に最適です。
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窒化ホウ素 (BN) るつぼ: これらのるつぼは、優れた熱的および化学的安定性で知られており、非反応性材料を必要とする高温用途や環境に最適です。
- ジルコニア (ZrO₂) るつぼ: これらのるつぼは、優れた耐熱衝撃性と高い融点で知られており、極端な温度を伴う用途に最適です。
当社のるつぼは、最適な性能と寿命を保証するために、正確さと品質で作られています。実験室での実験、工業用製錬、半導体製造のいずれの用途にるつぼが必要であっても、当社はお客様のニーズを満たす完璧なソリューションを提供します。
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