真空蒸着は、物理的気相成長法(PVD)で最も古くから使用されている手法のひとつである。一般的な手法には、熱蒸着、電子ビーム蒸着、スパッタリング、アーク蒸着などがある。このうち、熱蒸発法では、原料を高真空下で気化するまで加熱する。蒸発源と呼ばれる加熱装置は、コーティング材料をるつぼ内に保持する。るつぼが加熱されると、材料は液相から蒸発するか、固体状態から直接昇華し、その結果生じた蒸気が基材表面で凝縮して薄膜を形成する。加熱方法には通常、抵抗加熱と高周波誘導加熱がある。
蒸発るつぼは、熱蒸着プロセスにおける重要な部品です。加熱および気化中に材料を保持するために使用されます。これらのるつぼは通常、ボウル型または円筒型ですが、カスタム形状も利用可能です。アルミナ(Al₂O₃)は、高い融点、熱安定性、耐化学腐食性を備えているため、一般的に使用され、多くの高温蒸着アプリケーションに適しています。
蒸着るつぼは、薄膜蒸着、真空蒸着、PVDコーティングなどのプロセスで不可欠なもので、原料を保持し、蒸着層の純度を維持するための高温容器として機能します。
蒸発るつぼは、用途に応じて、るつぼライナーの有無を選択できます。ライナーとは、るつぼ内に配置され、原料をるつぼ壁から隔離する小さな容器です。ライナーは、溶融材料や冷却時の熱応力によって引き起こされる反応、腐食、または機械的損傷を防ぐのに役立ちます。
一般的なライナー材料には、モリブデン(Mo)、タンタル(Ta)、タングステン(W)、ニッケル(Ni)、熱分解窒化ホウ素(PBN)などがある。
たとえば、PBN ライナー付きの Al₂O₃ るつぼは、最高 1300°C の温度でのアルミニウム蒸発に適しています。
高アルミナセラミックるつぼで使用する場合、作業温度で溶融したり、るつぼと反応したりしないため、ライナーを必要としない材料もあります。その例には以下が含まれます:
ゲルマニウム (Ge):急激な温度変化に弱い。加熱/冷却速度をコントロールし、1500℃前後で安定させることが推奨される。
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